YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
标准名称：电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
标准编号：YS/T 935-2013
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
标准编号：YS/T 935-2013
规范名称：电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
适用范围：
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司
批准发布部门：工业和信息化部行业分类无
*特别声明：资源收集自网络或用户上传，本网站所提供的电子文本仅供参考，请以正式出版物为准。电子文本仅供个人标准化学习、研究使用，不得复制、发行、汇编、翻译或网络传播等。如有侵权，请联系我们处理。